아스플로, 기업공개 본격화… "반도체 공정가스 부품 기술 보유"

반도체 공정가스 부품 국산화에 성공한 아스플로가 추석 연휴 이후 기업공개(IPO) 청약에 나선다./사진=아스플로

반도체 공정가스 부품 국산화에 성공한 아스플로가 추석 연휴 이후 기업공개(IPO) 청약에 나선다.

17일 금융투자업계에 따르면 아스플로의 공모가 희망범위는 1만9000원~2만2000원으로 최대 139억원을 조달한다. 공모가 상단 기준 예상 시가총액은 978억원이다. 최대주주는 강두홍 대표이사이며 공모 후 지분율은 54.5%다. 

이날까지 수요예측을 통해 공모가를 확정하고 오는 27~28일 일반투자자 청약에 나선다. 상장 예정일은 10월7일이다. 주관사는 미래에셋증권이다.

지난 2001년 설립된 아스플로는 반도체 공정가스 공급·제어용 부품을 개발, 생산하는 기업이다. 2005년부터 삼성전자와 SK하이닉스에 부품을 공급해왔다. 회사는 전량 수입에 의존했던 국내 반도체 공정가스 부품소재 시장에서 회사는 극청정 표면 처리 기술을 개발해 국내 최초로 '고청정 배관부품 국산화'에 성공한 바 있다.

보통 반도체 공정가스 부품소재를 생산하는 기업은 일부 부품만 생산하지만 아스플로는 반도체 가스공급 관련 모든 시공과 장비용 부품을 생산 공급할 수 있는 ‘전 부품 일괄생산 시스템’을 구축했다.

올해 상반기 연결 기준 매출액은 전년동기대비 31% 늘어난 304억원을 기록했다. 영업이익과 순이익은 각각 지난해 상반기보다 16%, 24% 줄어든 33억원, 26억원을 나타냈다. 지난해 매출액과 영업이익은 각각 448억원, 48억원 수준으로 전년대비 10%, 50%씩 성장했다.

강두홍 아스플로 대표는 "아스플로는 국내 최초로 반도체 공정가스 부품 국산화에 성공에 성공한 기업"이라며 "지속적인 기술개발과 시장에 필요한 제품으로 글로벌 반도체 공정가스 부품소재 선도기업이 되겠다"고 말했다.